多功能真空磁濺射設備
物理氣相沉積 PVD
♦ 濺射技術屬於PVD（物理氣相沉積）技術的一種，是制備薄膜材料的重要方法之一。它是利用帶電荷的粒子在電場中加速后具有一定動能的特點，將離子引向欲被濺射的物質製成的靶電極（陰極），並將靶材原子濺射出來使其沿着一定的方向運動到襯底並最終在襯底上沉積成膜的方法。磁控濺射是把磁控原理與普通濺射技術相結合利用磁場的特殊分布控制電場中的電子運動軌跡，以此改進濺射的工藝，使得鍍膜厚度及均勻性可控，且制備的薄膜緻密性好、粘結力強及純淨度高。磁控濺射技術已經成為制備各種功能薄膜的重要手段。
PVD磁控濺射鍍膜是在真空室中進行，在工件上形成一層薄而均勻的鍍膜。
鈦、鉻、鋁、不鏽鋼、銀、銅、硅或其他元素通過磁控濺射蒸發。
♦ 應用磁控濺射技術的PVD產品在集成電路、半導體照明、微機電系統、 封裝等領域得到了廣氾的應用。在塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機殼、電子產品、建材等行業。
磁控濺射鍍膜機主要是使用直流（或中頻）磁控濺射，可適應廣氾鍍膜靶材，如：銅、鈦、鉻、不繡鋼、鎳等金屬材料，可以利用濺射工藝進行鍍膜，可提高膜層的附着力、重複性、緻密度、均勻度等特點。
應用範圍
主要用於在已預處理好的塑料、陶瓷、金屬等制品表面鍍制金屬膜、仿金膜等，從而獲得光亮美觀，價廉的塑料，陶瓷表面金屬化制品，廣氾使用於工藝美朮，裝潢裝飾，玩具等領域。更換不同的靶材，可得到不同的膜系，如超硬、耐磨、防腐的合金磨等。
結構特點
1、同時配備 的圓柱磁控濺射裝置和高效的電阻加熱蒸發裝置，將磁控濺射技術和加熱蒸發技術的有效
我們提供整套機器也生產磁控濺射陰極，有需要請隨時聯繫。
